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      M系列光束筆尖陣列光刻系統

      簡要描述:M系列光束筆尖陣列光刻系統:聚合物筆無掩模光刻納米制造系統(polymer pen lithography)聚合物筆納米無掩模光刻制造系統PPL, 使用可達160000筆尖的陣列,采用蘸筆光刻DPN的方式,將待沉積的材料(墨水)浸蘸在筆尖陣列上,筆尖可控的與基底表面接觸,從而在基底表面批量成型所需圖案,加工納米微米圖案無需光掩膜,且在平方厘米范圍內達到200納米以下的分辨率。

      • 產品型號:
      • 廠商性質:代理商
      • 更新時間:2024-09-23
      • 訪  問  量:3074

      詳細介紹

      M系列光束筆尖陣列光刻系統主要特點:

      - 高分辨率,可達低于100nm的分辨率;

      - 高通量模式,可達160000針尖輸出制作結構;

      - TERA-FAB M系列可制作厘米級材料尺寸;

      - 無需掩模,即時性改變輸出機構,可廣泛適應軟質和硬質材料;

      - 軟硬件友好,非專業人士可在幾小時培訓后,熟練使用。

      A)一張4英寸的PPL陣列,有1100萬支筆尖。

      B)陣列內納米尺度彈性材料*的掃描電子顯微照片及內嵌圖像;

      C)由PPL技術打印的多種蛋白示意圖。各針尖陣列蘸上不同的打印墨水(蛋白);

      D)熒光光學顯微圖的結果,PPL合成了多路熒光標記蛋白的圖案。

      如需了解M系列光束筆尖陣列光刻系統詳情可搜索北京培科創新技術有限公司,或查看儀器信息網/分析測試百科網了解,期待您的垂詢!

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